IT之家12月15日报道，ASML首席执行官克里斯托夫·富凯（Christophe Fouquet）在公司总部接受彭博社专访时表示，公司预计高NA EUV光刻设备将在2027-2028年正式投入先进工艺的大规模量产。目前，Intel Foundry更积极地推出新一代图案化技术，其高NA EUV兼容的Intel 14A节点预计将于2027年正式推出。Fouquet表示，高NA EUV光刻机目前正在接受Intel等客户的测试，结果表明新设备的图像和分辨率表现良好。该公司 2026 年面临的挑战之一是与客户合作最大限度地减少设备停机时间。 Fouquet还表示，ASML对于未来10到15年的整体技术路线图有具体的概念。该公司已开始下一代Hyper NA EUV的研究，并正在为下一代Hyper NA EUV奠定基础2030 年代的运营资金。
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