ASML的下一代EUV光刻设备已准备好量产，据报道耗资约4亿美元。

IT之家2月27日报道 据路透社今日报道，ASML高管透露，该公司的下一代芯片制造设备满足制造商大规模量产的条件，这是芯片行业迈出的重要一步。这家荷兰公司生产世界上唯一的商用极紫外（EUV）光刻设备，这是该芯片制造商的主要生产设备。 ASML的数据显示，新设备将消除芯片制造过程中的几道昂贵且复杂的工序，让台积电、英特尔等芯片公司能够生产出性能更高、能效更好的芯片。 ASML 花了数年时间开发这种高成本的下一代设备，而芯片制造商一直在评估何时开始大规模生产该设备在经济上可行。基因的能力目前供应极紫外光刻设备来生产复杂的人工智能芯片正在达到其技术极限，而这种被称为 High-NA EUV（高数值孔径极紫外光刻设备）的新一代设备是人工智能行业的关键。这有助于优化 OpenAI 的 ChatGPT 等聊天机器人，同时帮助芯片公司保持 AI 芯片研发路线图步入正轨，以满足不断增长的市场需求。这套新设备的单机造价约为4亿美元（IT之家注：当前汇率约为27.41亿元人民币），是第一代极紫外曝光设备的两倍。 ASML首席技术官Marco Peters表示，ASML的相关数据显示，设备高数值孔径极紫外光刻机的停机时间显着减少。该公司已累计加工50万片板状硅片，可蚀刻芯片电路所需的高精度图案。这三项信息共同表明，他的设备已准备好供制造商大规模生产。尽管该设备在技术上已经准备就绪，但芯片公司仍需要两三年的时间进行充分的测试和研发，然后才能将其集成到量产流程中。彼得斯认为，从设备的原型验证周期来看，已经达到了一个关键节点。 Peters先生“芯片厂商掌握了相关技术，有能力完成器件的量产认证。”他还透露，目前设备利用率已达到80%左右，公司计划在今年年底将这一指标提高到90%。该设备完成了50万片晶圆加工任务，使公司解决了设备运行中的诸多技术难题。
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